蝕(shi)刻(ke)技(ji)術(zhu)還(huan)可(ke)用(yong)在(zai)哪(nei)些(xie)方(fang)麵(mian)?
發(fa)布(bu)人(ren):管(guan)理(li)員(yuan) 發(fa)布(bu)日(ri)期(qi):2021-03-26
大(dai)部(bu)份(fen)的(di)蝕(shi)刻(ke)過(guo)程(cheng)包(bao)含(han)了(liao)一(yi)個(ge)或(huo)多(duo)個(ge)化(hua)學(xue)反(fan)應(ying)步(bu)驟(zhou),各(ge)種(zhong)形(xing)態(tai)的(di)反(fan)應(ying)都(du)有(you)可(ke)能(neng)發(fa)生(sheng),但(dan)常(chang)遇(yu)到(dao)的(di)反(fan)應(ying)是(shi)將(qiang)待(dai)蝕(shi)刻(ke)層(ceng)表(biao)麵(mian)先(xian)予(yu)以(yi)氧(yang)化(hua),再(zai)將(qiang)此(ci)氧(yang)化(hua)層(ceng)溶(rong)解(xie),並(bing)隨(sui)溶(rong)液(ye)排(pai)出(chu),如(ru)此(ci)反(fan)複(fu)進(jin)行(hang)以(yi)達(da)到(dao)蝕(shi)刻(ke)的(di)效(xiao)果(guo)。如(ru)蝕(shi)刻(ke)矽(gui)、鋁(lv)時(shi)即(ji)是(shi)利(li)用(yong)此(ci)種(zhong)化(hua)學(xue)反(fan)應(ying)方(fang)式(shi)。
通(tong)常(chang)可(ke)藉(jie)由(you)改(gai)變(bian)溶(rong)液(ye)濃(nong)度(duo)及(ji)溫(wen)度(duo)予(yu)以(yi)控(kong)製(zhi)。溶(rong)液(ye)濃(nong)度(duo)可(ke)改(gai)變(bian)反(fan)應(ying)物(wu)質(zhi)到(dao)達(da)及(ji)離(li)開(kai)待(dai)蝕(shi)刻(ke)物(wu)表(biao)麵(mian)的(di)速(su)率(shuai),一(yi)般(pan)而(er)言(yan),當(dang)溶(rong)液(ye)濃(nong)度(duo)增(zeng)加(jia)時(shi),蝕(shi)刻(ke)速(su)率(shuai)將(qiang)會(kuai)提(ti)高(gao)。而(er)提(ti)高(gao)溶(rong)液(ye)溫(wen)度(duo)可(ke)加(jia)速(su)化(hua)學(xue)反(fan)應(ying)速(su)率(shuai),進(jin)而(er)加(jia)速(su)蝕(shi)刻(ke)速(su)率(shuai)。
除(chu)了(liao)溶(rong)液(ye)的(di)選(xuan)用(yong)外(wai),選(xuan)擇(ze)適(kuo)用(yong)的(di)屏(bing)蔽(bi)物(wu)質(zhi)亦(yi)是(shi)十(shi)分(fen)重(chong)要(yao)的(di),它(ta)必(bi)須(xu)與(yu)待(dai)蝕(shi)刻(ke)材(cai)料(liao)表(biao)麵(mian)有(you)很(hen)好(hao)的(di)附(fu)著(zhuo)性(xing)、並(bing)能(neng)承(cheng)受(shou)蝕(shi)刻(ke)溶(rong)液(ye)的(di)侵(qin)蝕(shi)且(qie)穩(wen)定(ding)而(er)不(bu)變(bian)質(zhi)。而(er)光(guang)阻(zu)通(tong)常(chang)是(shi)一(yi)個(ge)很(hen)好(hao)的(di)屏(bing)蔽(bi)材(cai)料(liao),且(qie)由(you)於(yu)其(qi)圖(tu)案(an)轉(zhuan)印(yin)步(bu)驟(zhou)簡(jian)單(shan),因(yin)此(ci)常(chang)被(bei)使(shi)用(yong)。但(dan)使(shi)用(yong)光(guang)阻(zu)作(zuo)為(wei)屏(bing)蔽(bi)材(cai)料(liao)時(shi)也(ye)會(kuai)發(fa)生(sheng)邊(bian)緣(yuan)剝(bao)離(li)或(huo)龜(gui)裂(lie)的(di)情(qing)形(xing)。邊(bian)緣(yuan)剝(bao)離(li)乃(nai)由(you)於(yu)蝕(shi)刻(ke)溶(rong)液(ye)的(di)侵(qin)蝕(shi),造(zao)成(cheng)光(guang)阻(zu)與(yu)基(ji)材(cai)間(jian)的(di)黏(nian)著(zhuo)性(xing)變(bian)差(chai)所(suo)致(zhi)。解(xie)決(jue)的(di)方(fang)法(fa)則(ze)可(ke)使(shi)用(yong)黏(nian)著(zhuo)促(cu)進(jin)劑(ji)來(lai)增(zeng)加(jia)光(guang)阻(zu)與(yu)基(ji)材(cai)間(jian)的(di)黏(nian)著(zhuo)性(xing),如(ru)Hexamethyl-disilazane (HMDS)。龜(gui)裂(lie)則(ze)是(shi)因(yin)為(wei)光(guang)阻(zu)與(yu)基(ji)材(cai)間(jian)的(di)應(ying)力(li)差(chai)異(yi)太(tai)大(dai),減(jian)緩(huan)龜(gui)裂(lie)的(di)方(fang)法(fa)可(ke)利(li)用(yong)較(jiao)具(ju)彈(tan)性(xing)的(di)屏(bing)蔽(bi)材(cai)質(zhi)來(lai)吸(xi)收(shou)兩(liang)者(zhe)間(jian)的(di)應(ying)力(li)差(chai)。